高中化学人教版(新课标)必修1 第四章第一节 无机非金属材料的主角—硅

年级: 学科: 类型:同步测试 来源:91题库

一、单选题(共6小题)

1、我国具有独立知识产权的电脑芯片“龙芯一号”的问世,填补了我国计算机制造史上的一项空白。下列对晶体硅的有关叙述正确的是( )
A . 晶体硅的结构与金刚石类似 B . 晶体硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质发生反应 C . 晶体硅是一种良好的半导体材料,但是它提炼工艺复杂,价格昂贵 D . 晶体硅具有金属光泽,故它属于金属材料,可以导电
2、某同学用如图所示的装置及药品进行酸性强弱比较的实验,下列说法不正确.的是(   )

A . ①和②中发生的反应均为复分解反应 B . 向Na2SiO3饱和溶液中滴酚酞溶液无明显现象 C . 一段时间后②中有胶冻状物质生成 D . 该实验能证明酸性强弱的顺序是:硫酸>碳酸>硅酸
3、硅及其化合物应用广泛,下列叙述正确的是(    )
A . 硅酸钠可用于制备木材防火剂 B . 水晶项链是硅酸盐制品 C . 光导纤维的主要成分是晶体硅 D . 硅在地壳中主要以游离态形式存在
4、下列叙述正确的是(   )
A . SiO2既能和NaOH溶液反应,又能和HF反应,所以SiO2属于两性氧化物 B . 因为Na2CO3 +SiO2 Na2 SiO3+CO2↑,所以H2SiO3的酸性比H2CO3 C . CO2和SiO2都能与C反应 D . CO2和SiO2都是酸性氧化物,所以两者物理性质相似
5、下列说法正确的是(   )
A . 硅材料广泛应用于光纤通讯 B . 工艺师利用盐酸刻蚀石英制作艺术品 C . 水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品 D . 粗硅制备单晶硅不涉及氧化还原反应
6、化学在生产生活和科学研究中具有重要的作用。下列说法正确的是( )

①石英的主要成分是二氧化硅

②三峡大坝使用了大量水泥,水泥是硅酸盐材料

③太阳能电池的主要成分是硅,太阳能电池在生活中的应用有利于环保、节能

④二氧化硅的熔点高,硬度大,所以可用来制造电子部件和光学器件

⑤水玻璃中含有三种元素,主要用来制备硅胶和木材防火剂

A . ①②③ B . ②④⑤ C . ③④⑤ D . ①②③④

二、综合题(共5小题)

1、已知A是灰黑色、有金属光泽的固体单质。根据如图所示的物质之间的转化关系,回答下列有关问题。

图片_x0020_1625978399 (少量)

(1)写出A,B,C,D的化学式:A,B,C,D
(2)写出D→A的化学方程式:
(3)写出B→C的离子方程式:
2、按要求填空。
(1)I.现有下列10种物质①熔融的氢氧化钠 ②蔗糖 ③纯净的盐酸 ④金属钠 ⑤硫酸 ⑥二氧化硫 ⑦硫粉 ⑧石膏(CaSO4·2 H2O) ⑨酒精溶液   ⑩液氨

属于电解质的有

(2)属于非电解质的有
(3)上述状态下能导电的有
(4)上述状态下的电解质不能导电的有
(5)II.Fe(OH)2长时间露置于空气中发生变化的化学方程式为:

偏铝酸钠溶液中通入足量二氧化碳反应的离子方程式为:

(6)III.高纯度单晶硅可以按下列方法制备:

写出步骤①的化学方程式

步骤②的产物经过冷凝后得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量的SiCl4(沸点57.6℃),提纯SiHCl3主要操作的名称是

3、硅是无机非金属材料的主角,硅的氧化物和硅酸盐约占地壳质量的90%以上。
(1)SiO2是玻璃的成分之一,SiO2与氢氧化钠溶液反应的化学方程式为,工艺师常用(填物质名称或化学式)来雕刻玻璃。
(2)用Na2SiO3溶液浸泡过的棉花不易燃烧,体现Na2SiO3的用途可作的原料。
(3)工业上常用2C+SiO2 Si+2CO↑制备硅单质,该反应中有元素化合价升高的物质是(填化学式,下同),氧化剂是
4、从铝土矿(主要成分是Al2O3 , 含SiO2、Fe2O3、MgO等杂质)中提取氧化铝的两种工艺流程如下:

图片_x0020_100016

请回答下列问题:

(1)固体A的主要成分是(写名称);
(2)铝土矿与过量烧碱反应的离子方程式为
(3)电解熔融氧化铝可制得两种单质,写出该反应化学方程式
(4)写出滤液D和过量CO2反应的离子方程式
(5)指出流程乙的一个缺点是
(6)氧化铝与焦炭的混合物在氮气中高温加热反应,制得新型非金属材料AlN与一种中学常见气体X.已知每转移6.02×1023个电子,有0.5mol化合物X生成,此反应的化学方程式
5、硅在地壳中的含量较高,硅及其化合物的开发由来已久。高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如下:

 

(1)工业上用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热到1600℃-1800℃生成粗硅的化学方程式为
(2)在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl 等,粗硅生成SiHCl3的化学反应方程式_
(3)有关物质的熔沸点数据如下表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和_

SiHCl3极易水解且生成某种可燃性气体,其完全水解的产物为_

物质

Si

SiCl4

 SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

熔点/℃

1410

-70.4

-126.5

-122

-118

-114.2

-185

沸点/℃

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9

(4)还原炉中发生的化学反应为: 。.
(5)上述工艺生产中循环使用的物质除Si、SiHCl3外, 还有_
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